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El tratamiento térmico es un proceso complementario que se aplica a los semiconductores para mejorar sus propiedades estructurales, ópticas y eléctricas. En la unión metal-semiconductor o heterounión p-n se usa un horno de resistencia eléctrica con un un sistema de vacío dinámico que disminuye la presión interna y el material "siente una temperatura mayor" por lo que no es necesario tener altas temperaturas en el horno, también se evita la formación de capas de óxido al realizarse en un sistema cerrado y no al aire. El recocido de la unión p-n provoca una difusión de un material al otro, reduciendo el ancho de la barrera de potencial que existe en la región de carga espacial entre los semiconductores p y n.